新闻中心 
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04-30英特尔抢先用新EUV 台积电考量成本效益策略大不同台积电、英特尔和三星在制程技术上的竞争一直备受关注。英特尔计划在2026年量产18A时引入高数值孔径极紫外光技术，而台积电在2028年量产A14制程时仍不打算采...
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12-10imec推动7埃米制程 提出双列CFET结构imec在2024年IEEE国际电子器件会议(IEDM)上发布了一种创新的7埃米(A7)逻辑节点互补式场效晶体管(CFET)标准单元结构——双列CFET架构。该...
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12-01光刻机的分类有哪些_光刻机分类有哪些种类的分析光刻机根据光源类型、透镜类型、投影方式、分辨率、产能、自动化程度和成本分类。光刻机的应用和技术需求随着半导体技术的进步而不断变化，推动着光刻机分类的演变。
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11-08光刻机是干什么用的光刻机是微电子制造中的关键设备，用于在晶片上创建微小电路和结构。其基本原理包括：（1）图案设计；（2）光掩模制作；（3）曝光；（4）显影；（5）刻蚀。光刻机使微...
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